シアーセルによる半導体及び金属融液における高精度拡散係数の測定 Measurement of High Accurate Diffusion coefficient in Melt of Semiconductor and Metal by using Shear Cell Method

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収録刊行物

  • JASMA : Journal of the Japan Society of Microgravity Application

    JASMA : Journal of the Japan Society of Microgravity Application 16(2), 111-118, 1999-05-20

    日本マイクログラビティ応用学会

参考文献:  7件中 1-7件 を表示

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    BRAEUER P.

    Journal of Crystal Growth 186, 520, 1998

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    YODA Shinichi

    21st International Symposium on Space Technology and Science ISTS 98-g-16, 1998

    被引用文献2件

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    OIDA Toshihiko

    21st International Symposium on Space Technology and Science ISTS 98-g-17, 1998

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    YODA Shinichi

    21st International Symposium on Space Technology and Science ISTS 98-g-16, 1998

    被引用文献2件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002845784
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10537663
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09153616
  • NDL 記事登録ID
    4733369
  • NDL 雑誌分類
    ZM33(科学技術--宇宙科学) // ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-621
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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