クリーンルーム中の水分によるSiウェハ表面の有機物質汚染の影響

• 鍵 直樹

  東工大・情理工

• 藤井 修二

  東工大・情理工

• 湯浅 和博

  東工大・情理工

• 藪本 周邦

  NTT Advanced Technology

• 田中 克昌

  フジタ

書誌事項

タイトル別名

• Adsorption Mechanisms of Organic Compounds on Si Wafer Surface by Cleanroom moisture

収録刊行物

• エアロゾル科学・技術研究討論会 = Symposium on Aerosol Science & Technology

  エアロゾル科学・技術研究討論会 = Symposium on Aerosol Science & Technology 15 150-152, 1998-08

詳細情報

• CRID: 1572261548974514816
• NII論文ID: 10002846216
• NII書誌ID: AA11498601
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles