回転電極を用いた大気圧プラズマCVDによるSi薄膜の高速成膜に関する研究(第5報) -高速形成a-Si薄膜の特性-

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収録刊行物

  • 精密工学会大会学術講演会講演論文集  

    精密工学会大会学術講演会講演論文集 1997(2), 192, 1997-10-01 

参考文献:  4件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002870908
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1018673X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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