ヘテロエピタキシャル成長技術を用いたSi基板上半導体レーザー Semiconductor Laser on Si Substrate Using Heteroepitaxial Growth Technique

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  • レーザー学会研究会報告 = Reports on the Topical meeting of the Laser Society of Japan

    レーザー学会研究会報告 = Reports on the Topical meeting of the Laser Society of Japan 228, 7-12, 1996-05-22

参考文献:  14件中 1-14件 を表示

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    DOI 被引用文献5件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002878879
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11604414
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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