ビームホモジナイザーを用いたテフロンの表面改質と置換基濃度コントロール Photochemical Surface Modification of Teflon by using Beam Homogenizer for Control of Substitutional Concentration

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  • レーザー学会研究会報告 = Reports on the Topical meeting of the Laser Society of Japan

    レーザー学会研究会報告 = Reports on the Topical meeting of the Laser Society of Japan 244, 39-46, 1997-09-24

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  • <no title>

    HERMAN Peter R.

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 285, 163-168, 1992

    被引用文献1件

  • <no title>

    GONG D. L.

    J. Appl. Poly. Sci. 40, 1141, 1990

    被引用文献1件

  • <no title>

    OKOSHI M.

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 236, 377-382, 1991

    被引用文献1件

  • <no title>

    OKOSHI M.

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 279, 737-742, 1992

    被引用文献1件

  • <no title>

    MURAHARA M.

    J. Adhesion Sci. Tech. 9, 1601, 1995

    被引用文献6件

  • <no title>

    OKOSHI M.

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 397, 655-660, 1995

    被引用文献1件

  • <no title>

    OKOSHI M.

    J. Mat. Res. 7, (7), 1992

    被引用文献1件

  • <no title>

    村原正隆

    日本国特許第2617040号, 1997

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002879480
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11604414
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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