ビームホモジナイザーを用いたテフロンの表面改質と置換基濃度コントロール Photochemical Surface Modification of Teflon by using Beam Homogenizer for Control of Substitutional Concentration

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  • レーザー学会研究会報告 = Reports on the Topical meeting of the Laser Society of Japan  

    レーザー学会研究会報告 = Reports on the Topical meeting of the Laser Society of Japan 244, 39-46, 1997-09-24 

参考文献:  8件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002879480
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11604414
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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