薄膜デバイス作製へのレーザー応用 Thin Film Fabrication by Pulsed Laser Deposition Method

この論文をさがす

著者

    • 青木 振一 AOQUI S.
    • 熊本工業大学電気工学科 Kumamoto Institute of Technology, Dept. of Electrical Engineering
    • 須田 義昭 YOSHIDA Y.
    • 佐世保工業高等専門学校電気工学科 Sasebo National College of Technology, Dept. of Electrical Engineering
    • 池上 知顕 IKEGAMI T.
    • 熊本大学工学部電気システム工学科 Kumamoto University, Dept. of Electrical and Computer Engineering
    • 山形 幸彦 YAMAGATA Y.
    • 熊本大学工学部電気システム工学科 Kumamoto University, Dept. of Electrical and Computer Engineering
    • 山里 将朗 YAMAZATO M.
    • 熊本大学工学部電気システム工学科 Kumamoto University, Dept. of Electrical and Computer Engineering
    • 黒木 啓光 KUROKI H.
    • 熊本大学工学部電気システム工学科 Kumamoto University, Dept. of Electrical and Computer Engineering
    • 新貝 和史 SHINGAI K.
    • 熊本大学工学部電気システム工学科 Kumamoto University, Dept. of Electrical and Computer Engineering
    • A M. Grishin
    • Sweden Royal Institute of Technology, Dept. of Condensed Matter Physics
    • 蛯原 健治 EBIHARA K.
    • 熊本大学工学部電気システム工学科 Kumamoto University, Dept. of Electrical and Computer Engineering

収録刊行物

  • レーザー学会研究会報告 = Reports on the Topical meeting of the Laser Society of Japan  

    レーザー学会研究会報告 = Reports on the Topical meeting of the Laser Society of Japan 245, 29-37, 1997-11-21 

参考文献:  14件

参考文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002879525
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11604414
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
ページトップへ