真空紫外光によるSiウェハーの室温プロセス Photo-processing of Silicon wafer using excimer VUV at room temperature

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  • レーザー学会学術講演会年次大会講演予稿集 = Annual meeting, of the Laser Society of Japan digest of technical papers

    レーザー学会学術講演会年次大会講演予稿集 = Annual meeting, of the Laser Society of Japan digest of technical papers 19, 76, 1999-01-01

参考文献:  2件中 1-2件 を表示

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    佐々木亘

    光学 20(9), 24, 1991

    被引用文献1件

  • <no title>

    吉原真哉

    第59回応用物理学会学術講演会講演予稿集 3, 985, 1998

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002883585
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11604265
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09136355
  • データ提供元
    CJP書誌 
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