レーザーアブレーションを利用した新規ラジカル注入法によるSiO_2/Si選択エッチングプロセスの制御

• 藤田 和司

  名古屋大学工学研究科

• 小林 重人

  名古屋大学工学研究科

• 伊藤 昌文

  名古屋大学工学研究科

• 堀 勝

  名古屋大学工学研究科

• 後藤 俊夫

  名古屋大学工学研究科

書誌事項

タイトル別名

• Cotrol of SiO_2/Si Selective Etching Process by Novel Radical Injection Technique Using Laser Ablation

収録刊行物

• レーザー学会学術講演会年次大会講演予稿集 = Annual meeting, of the Laser Society of Japan digest of technical papers

  レーザー学会学術講演会年次大会講演予稿集 = Annual meeting, of the Laser Society of Japan digest of technical papers 19 77-, 1999-01-01

詳細情報

• CRID: 1571980073983930880
• NII論文ID: 10002883589
• NII書誌ID: AA11604265
• ISSN: 09136355
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles