SiO_x薄膜合成におけるリモート酸素プラズマの効果 Effect of Remote Oxygen-Plasma for SiO_x Film Preparation

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著者

    • 山田 泰美 YAMADA Yasumi
    • 静岡大学工学部材料精密化学科高分子材料研究室 Laboratory of Polymer Chemistry,Faculty of Engineering,Shizuoka University
    • 田坂 茂 TASAKA Shigeru
    • 静岡大学工学部材料精密化学科高分子材料研究室 Laboratory of Polymer Chemistry,Faculty of Engineering,Shizuoka University
    • 稲垣 訓宏 INAGAKI Norihiro
    • 静岡大学工学部材料精密化学科高分子材料研究室 Lavoratory of Polymer Chemistry,Faculty of Engineeing,Shizuoka University

収録刊行物

  • 高分子論文集

    高分子論文集 53(1), 33-40, 1996-01-25

    高分子学会

参考文献:  15件中 1-15件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10003282931
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00085011
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03862186
  • NDL 記事登録ID
    3917749
  • NDL 雑誌分類
    ZP16(科学技術--化学・化学工業--高分子化学・高分子化学工業)
  • NDL 請求記号
    Z17-92
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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