ビグアニド基を有するキトサン誘導体の合成と性質 Preparation and Properites of Chitosan Derivatives with Biguanido Groups

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著者

    • 瀬尾 利弘 SEO Toshihiro
    • 福井大学工学部材料化学科 Department of Materials Science and Engineering,Faculty of Engineering,Fukui University
    • 卯西 昭信 UNISHI Terunobu
    • 福井大学工学部材料化学科 Department of Materials Science and Engineering,Faculty of Engineering,Fukui University

抄録

ビグアニド基を有するキトサンの合成を, a) 溶融法, b) 金属塩法, およびc) グアニル-<I>O</I>-メチルイン尿素 (GOMe) 法を用いて行った. キトサン塩酸塩とジシアンジアミドを高温加熱した前2者のでは, 置換率 (<I>DS</I>) は30%以上になったが分子量は低下した. 一方, アルカリ処理キトサンとGOMe塩酸塩を室温で反応した場合は, <I>DS</I>約20%で高分子量を保持した生成物が得られた. 多含窒素官能基含むこれら誘導体は, 酸性水溶液中で電解質的粘度挙動を呈した. キトサンビグアニドの金属イオン吸着能は, Zn (II) <Ni (II) 《Cu (II) の順に増大し, Cd (II) やHg (II) にも局い吸着率を不した. さらに, カオリンおよび活性白土懸濁液に対する凝集作用を調べた結果, キ トサンへのビグアニド基の導入による凝集能の向上が認められた.

Preparation and properties of chitosan (CS) derivatives modified with biguanido groups were examined. The melt reaction of chitosan hydrochloride with dicyandiamide gave chitosan derivatives with a degree of substitution (<I>DS</I>) of more than 30%. Further, a water-soluble product was readily obtained by adding copper (II) chloride to the same reaction system. However, under these reaction conditions the decomposition of the main chain took place. Chitosan pretreated with an alkaline solution was also reacted with guanyl-<I>O</I>-methyl isourea at room temperature, leading to the product having <I>DS</I> of <I>ca</I>. 20% and high molecular weight. The reduced viscosity of the above derivatives incresed with dilution in the acid solutions, but decreased linearly in the presence of a sodium salt. These results indicate that they were cationic polyelectrolytes. The adsorption ability increased in the order Zn (II) <Ni (II) <<Cu (II), and high affinity toward Cd (II) and Hg (II) was observed. The biguanido-containing chitosan showed a pronounced aggregation effect toward aqueous suspension of both Kaolin and acid clay.

収録刊行物

  • 高分子論文集

    高分子論文集 53(1), 70-76, 1996-01-25

    The Society of Polymer Science, Japan

参考文献:  22件中 1-22件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10003283027
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00085011
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03862186
  • NDL 記事登録ID
    3917754
  • NDL 雑誌分類
    ZP16(科学技術--化学・化学工業--高分子化学・高分子化学工業)
  • NDL 請求記号
    Z17-92
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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