高分子レジストを用いた極微細加工とその評価 Micro-and Nanofabrications with Polymer Resists and Their Evaluations

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収録刊行物

  • 高分子論文集

    高分子論文集 53(4), 260-263, 1996-04-25

    高分子学会

参考文献:  14件中 1-14件 を表示

  • <no title>

    KAGA T.

    IEDM Tech. Dig. 927, 1994

    被引用文献4件

  • <no title>

    吉村俊之

    応用物理 63, 1131, 1994

    被引用文献2件

  • <no title>

    ASAI N.

    J. Photopolym. Sci. Technol. 7, 23, 1994

    被引用文献1件

  • <no title>

    YOSHIMURA T.

    Appl. Phys. Lett. 63, 764, 1993

    被引用文献9件

  • <no title>

    CHEN W.

    Appl. Phys. Lett. 63, 1116, 1993

    被引用文献4件

  • <no title>

    YOSHIMURA T.

    J. Vac. Sci., Technol. B10, 2615, 1992

    被引用文献8件

  • <no title>

    SHIRAISHI H.

    J. Vac. Sci. Technol. B12, 3895, 1994

    被引用文献4件

  • <no title>

    BINNING G.

    Phys. Rev. Lett. 56, 930, 1986

    被引用文献75件

  • <no title>

    MEYER E.

    Nature 349, 398, 1991

    被引用文献10件

  • <no title>

    YOSHIMURA T.

    Jpn. J. Appl. Phys. 32, 6065, 1993

    被引用文献9件

  • <no title>

    LITMAN A.

    Proc. SPIE 2196, 128, 1994

    被引用文献1件

  • <no title>

    WEISENHORN A. L.

    Langmuir 7, 8, 1991

    被引用文献5件

  • <no title>

    MARTIN Y.

    Appl. Phys. Lett. 64, 2498, 1994

    被引用文献1件

  • <no title>

    SCHECKLER E. W.

    Jpn. J. Appl. Phys. 32, 327, 1993

    DOI 被引用文献9件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10003283469
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00085011
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    NOT
  • ISSN
    03862186
  • NDL 記事登録ID
    3947647
  • NDL 雑誌分類
    ZP16(科学技術--化学・化学工業--高分子化学・高分子化学工業)
  • NDL 請求記号
    Z17-92
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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