ポジ型レジスト特性に及ぼす溶剤の影響 Influence of Casting Solvents on the Properties of Positive Photorresists

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著者

収録刊行物

  • 高分子論文集

    高分子論文集 53(4), 264-267, 1996-04-25

    高分子学会

参考文献:  3件中 1-3件 を表示

  • <no title>

    MARKOFF J.

    The New York Times 12, 1992

    被引用文献1件

  • <no title>

    日経マテリアル&テクノロジー 12, 83, 1993

    被引用文献1件

  • <no title>

    浅海慎五

    月刊Semiconductor World 1, 105, 1994

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10003283484
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00085011
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    NOT
  • ISSN
    03862186
  • NDL 記事登録ID
    3947648
  • NDL 雑誌分類
    ZP16(科学技術--化学・化学工業--高分子化学・高分子化学工業)
  • NDL 請求記号
    Z17-92
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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