化学増幅ポジ型3成分系電子線レジストの設計と開発 Development of the Chemically Amplified Three-Component Positive Electron Beam Resist

この論文をさがす

著者

収録刊行物

  • 高分子論文集

    高分子論文集 55(5), 231-242, 1998-05-25

    高分子学会

参考文献:  42件中 1-42件 を表示

  • <no title>

    NAKAMURA J.

    Jpn. J. Appl. Phys. 30, 2619, 1991

    被引用文献7件

  • <no title>

    ITO H.

    Digest of Technical papers of 1982 Symposium on VLSI Technology 86, 1982

    被引用文献1件

  • <no title>

    FRECHET J. M. J.

    Proc. Microcircuit Eng. 260, 1982

    被引用文献3件

  • <no title>

    上野巧

    短波長フォトレジスト材料, 1988

    被引用文献5件

  • <no title>

    REICHMANIS E.

    Chem. Mater 3, 394, 1991

    被引用文献6件

  • <no title>

    FEELY W. E.

    Proc. SPIE 631, 48, 1986

    被引用文献1件

  • <no title>

    LIU Y. S.

    Proc. SPIE 774, 133, 1987

    被引用文献1件

  • <no title>

    O'TOOLE M. M.

    J. Electrochem. Soc. 135, 1026, 1988

    被引用文献1件

  • <no title>

    BRUNS A.

    Microcircuit Eng. 6, 467, 1987

    被引用文献1件

  • <no title>

    THACKERAY J. W.

    Proc. SPIE 1466, 39, 1991

    被引用文献3件

  • <no title>

    渡 英夫

    電子情報通信学会論文誌 J79-C-II,8, 422, 1996

    被引用文献1件

  • <no title>

    KUMADA T.

    J.Photopolym.Sci.Technol. 4, 469, 1991

    被引用文献7件

  • <no title>

    東司

    第38回春季応用物理学会予稿集 572, 1991

    被引用文献1件

  • <no title>

    中村二朗

    第38回春季応用物理学会予稿集 578, 1991

    被引用文献1件

  • <no title>

    KOSHIBA M.

    Technical Papers of Regional Technical Conference, Ellenville 235, 1988

    被引用文献1件

  • <no title>

    堀 英夫

    高分子論文集 53, 133, 1996

    被引用文献1件

  • <no title>

    堀 英夫

    電子情報通信学会論文誌 J80-C-II,1, 14, 1997

    被引用文献1件

  • <no title>

    堀 英夫

    高分子論文集 53, 737, 1996

    被引用文献1件

  • <no title>

    KIHARA N.

    Proc. SPIE 1672, 197, 1992

    被引用文献1件

  • <no title>

    堀 英夫

    高分子論文集 53, 57, 1996

    被引用文献1件

  • <no title>

    日本化学会編

    化学便覧,基礎編 317, 1984

    被引用文献2件

  • <no title>

    HORIBE H.

    Jpn.J.Appl.Phys. 34, 4247, 1995

    被引用文献5件

  • <no title>

    REICHMANIS E.

    Chem. Mater 3, 394, 1991

    被引用文献6件

  • <no title>

    PAPPAS S. P.

    J. Imaging Technol. 11, 146, 1989

    被引用文献2件

  • <no title>

    TSUDA M.

    J. Photopolym. Sci. Technol. 249, 1990

    被引用文献1件

  • <no title>

    津田穣

    超LSIレジストの分子設計 60, 1990

    被引用文献1件

  • <no title>

    上野巧

    第37回JEOM講演要旨集 41, 1990

    被引用文献3件

  • <no title>

    堀 英夫

    高分子学会予稿集 38(3), 449, 1989

    被引用文献1件

  • Acids and Bases

    PINE S. H.

    Organic Chemistry, 4th ed. 202, 1981

    被引用文献1件

  • <no title>

    TANAKA Y.

    Jpn. J. Appl. Phys. 29, 2638, 1990

    被引用文献1件

  • <no title>

    堀 英夫

    高分子論文集 53, 488, 1996

    被引用文献1件

  • <no title>

    MACDONALD S. A.

    Proc. SPIE 1466, 2, 1991

    被引用文献10件

  • <no title>

    KUMADA T.

    Proc.SPIE 1925, 31, 1993

    被引用文献5件

  • <no title>

    NALAMASU O.

    Proc. SPIE 1466, 13, 1993

    被引用文献1件

  • <no title>

    BAN H.

    J. Photopolym. Sci. Technol. 7, 17, 1994

    被引用文献3件

  • <no title>

    OIKAWA A.

    Proc. SPIE 1925, 92, 1993

    被引用文献2件

  • <no title>

    SASAGO M.

    第54回応用物理学学術講演会講演予稿集, No.2 547, 1993

    被引用文献1件

  • <no title>

    KUMADA T.

    J.Photopolym.Sci.Technol. 6, 571, 1993

    被引用文献8件

  • <no title>

    FUJINO T.

    J.Vac.Sci.Technol. B11, 2773, 1993

    被引用文献6件

  • <no title>

    FUJINO T.

    Jpn. J. Appl. Phys. 35(Part1,12A), 6320, 1996

    被引用文献1件

  • <no title>

    KAWAMURA K.

    J. Appl. Phys. 53, 6489, 1982

    DOI 被引用文献7件

  • Photochemistry of triarylsulfonium salts

    DEKTAR J. L.

    J. Am. Chem. Soc. 112, 6004, 1990

    DOI 被引用文献6件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10003288579
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00085011
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03862186
  • NDL 記事登録ID
    4474995
  • NDL 雑誌分類
    ZP16(科学技術--化学・化学工業--高分子化学・高分子化学工業)
  • NDL 請求記号
    Z17-92
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
ページトップへ