高磁場印加による結晶配向 Crystal Alignment Using Imposition of a High Magnetic Field

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著者

    • 森川 拓
    • 名古屋大学大学院 Dept. of Materials Processing Eng., Nagoya Univ.
    • 東 啓介
    • 名古屋大学大学院 Dept. of Materials Processing Eng., Nagoya Univ.
    • 佐々 健介
    • 名古屋大学大学院 Dept. of Materials Processing Eng., Nagoya Univ.

収録刊行物

  • 材料とプロセス : 日本鉄鋼協会講演論文集 = Current advances in materials and processes : report of the ISIJ meeting

    材料とプロセス : 日本鉄鋼協会講演論文集 = Current advances in materials and processes : report of the ISIJ meeting 11(1), 123, 1998-03-05

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10003798201
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10056461
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09146628
  • データ提供元
    CJP書誌 
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