低速陽電子によるSiO_2膜の評価 Characterization of SiO_2 films by slow postrons

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収録刊行物

  • 應用物理  

    應用物理 64(1), 43-46, 1995-01 

    応用物理学会

参考文献:  18件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004278049
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00026679
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    OTR
  • ISSN
    03698009
  • NDL 記事登録ID
    3901448
  • NDL 刊行物分類
    MC61(分子・物性)
  • NDL 雑誌分類
    ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-243
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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