低速陽電子によるSiO2膜の評価

• 上殿 明良

• 谷川 庄一郎

書誌事項

タイトル別名

• テイソク ヨウデンシ ニ ヨル SiO2 マク ノ ヒョウカ

抄録

記事分類: 物理学--分子・物性

収録刊行物

• 応用物理

  応用物理 64 (1), p43-46, 1995-01

  東京 : 応用物理学会

詳細情報

• CRID: 1520572360189855360
• NII論文ID: 10004278049
• NII書誌ID: AN00026679
• ISSN: 03698009
• NDL書誌ID: 3901448
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I3901448
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles