シリコン単結晶成長における磁界の利用 Electromagnetic Processing of Materials. Application of Magnetic Field to Silicon Single Crystal Growth.

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  • 電気学会誌 = The journal of the Institute of Electrical Engineers of Japan

    電気学会誌 = The journal of the Institute of Electrical Engineers of Japan 119(4), 222-224, 1999-04-01

    The Institute of Electrical Engineers of Japan

参考文献:  20件中 1-20件 を表示

  • <no title>

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    DOI 被引用文献3件

被引用文献:  1件中 1-1件 を表示

  • 産業用超電導機器

    山口 貢 , 牧 直樹 , 海保 勝之

    電気学会論文誌. B, 電力・エネルギー部門誌 = The transactions of the Institute of Electrical Engineers of Japan. B, A publication of Power and Energy Society 119(11), 1146-1149, 1999-11-01

    参考文献10件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004296014
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10432927
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    13405551
  • NDL 記事登録ID
    4704168
  • NDL 雑誌分類
    ZN31(科学技術--電気工学・電気機械工業)
  • NDL 請求記号
    Z16-177
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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