Electromagnetic Processing of Materials. Application of Magnetic Field to Silicon Single Crystal Growth.

• 飯野 栄一

  信越化学工業(株)

Bibliographic Information

Other Title

• 電磁界を利用した材料プロセッシング　　シリコン単結晶成長における磁界の利用
• シリコンタンケッショウ セイチョウ ニ オケル ジカイ ノ リヨウ

Journal

• The Journal of The Institute of Electrical Engineers of Japan

  The Journal of The Institute of Electrical Engineers of Japan 119 (4), 222-224, 1999

  The Institute of Electrical Engineers of Japan

Keywords

• シリコン単結晶
• CZ法
• 磁界
• 超電導マグネット

Details

• CRID: 1390282679637767040
• NII Article ID: 10004296014
• NII Article ID: 10007762987
• NII Book ID: AN10432927
• DOI: 10.1541/ieejjournal.119.222
• ISSN: 18814190
• ISSN: 13405551
• NDL BIB ID: 4704168
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4704168
• Web Site: http://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejjournal1994/119/4/119_4_222/_pdf
• Text Lang: ja
• Data Source:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles