EUVリソグラフィー光源としてのレーザプラズマ Radiation Properties from Laser Produced Plasma for EUV Lithography Application.

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著者

    • 米田 仁紀 YONEDA Hitoki
    • 電気通信大学レーザー極限技術研究センター Institute for Laser Science, University of Electrocommunications

収録刊行物

  • 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = The transactions of the Institute of Electrical Engineers of Japan. A, A publication of Fundamentals and Materials Society  

    電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = The transactions of the Institute of Electrical Engineers of Japan. A, A publication of Fundamentals and Materials Society 118(11), 1197-1200, 1998-11-01 

    電気学会

参考文献:  5件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004440937
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10136312
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03854205
  • NDL 記事登録ID
    4588378
  • NDL 雑誌分類
    ZN31(科学技術--電気工学・電気機械工業)
  • NDL 請求記号
    Z16-793
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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