プラズマCVD法による希土類添加シリカ薄膜-成膜法の開発と発光の物性研究への応用-

• 四元 茂之

  早稲田大学

• 酒井 真吾

  早稲田大学

• 大木 義路

  早稲田大学

書誌事項

タイトル別名

• Rare-earth-doped SiO₂ Films Prepared by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition -Development of Deposition Method and Application of Its Luminescence to Research in Physics-
• プラズマ CVDホウ ニ ヨル キドルイ テンカ シリカ ハクマク セイマクホウ ノ カイハツ ト ハッコウ ノ ブッセイ ケンキュウ エ ノ オウヨウ

抄録

Rare-earth-doped thin SiO₂ films were made by plasma-enhanced chemical vapor deposition using a complex containing chelating ligands and tetraethoxysilane. By this means of deposition, the film was successfully doped with terbium or erbium and the luminescence from the film was detected. Furthermore, by making a two-layered sample consisting of the terbiumdoped SiO₂ film and non-doped SiO₂ film or fluorine-doped SiO₂ film and by examining the electroluminescence intensity, it was found that the acceleration of electrons by electric field is difficult in the fluorine-doped SiO2 film.

収録刊行物

• 電気学会論文誌．　Ａ

  電気学会論文誌．　Ａ 119 (1), 113-117, 1999

  一般社団法人 電気学会

キーワード

• 希土類添加シリカ
• プラズマCVD
• 低温堆積法
• 電子エネルギー
• 電界発光

詳細情報

• CRID: 1390282679574740224
• NII論文ID: 130006838078
• NII論文ID: 10004441753
• NII書誌ID: AN10136312
• DOI: 10.1541/ieejfms1990.119.1_113
• ISSN: 13475533
• ISSN: 03854205
• NDL書誌ID: 971643
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I971643
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejfms1990/119/1/119_1_113/_pdf
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可