パルスグロー放電を用いた大容量高密度プラズマの生成 Generation of High Density Plasma with Large Volum Using Pulsed Glow Discharge

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抄録

1989年にウイスコンシン大学のコンラッド博士により提案されたPSII(Plasma Source Ion Implantation)は,三次元形状物にもイオン注入が可能なことから,多くの機関で研究開発が試みられている(1)-(3)。PSIIには大容積・高密度プラズマが必要となる。コンデンサに接続したギャップなどで起こるパルスグロー放電では,短時間ではあるが大容積のプラズマが発生するため,イオンソースとしての応用が期待されている(3)、(4)。パルスグロー放電に関する報告は,過渡グロー放電を対象に,電流密度が正規グローの理論値とほぼ一致するなどが報告されている(5)-(8)。しかしこれらの放電電流は数Aから数十Aオーダと小さい。イオンソースとして利用するためには,プラズマの更なる高密度化が望まれる。本研究は,放電回路を同軸形状として回路インダクタンスを減らし,かつ回路抵抗を小さくすることで,パルスグロー放電を異常グロー領域で生成した。ここでは,その大電流パルスグロー放電の特性について述べる。

収録刊行物

  • 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = The transactions of the Institute of Electrical Engineers of Japan. A, A publication of Fundamentals and Materials Society  

    電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = The transactions of the Institute of Electrical Engineers of Japan. A, A publication of Fundamentals and Materials Society 119(4), 531-532, 1999-04 

    電気学会

参考文献:  9件

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被引用文献:  2件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004442582
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10136312
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    03854205
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  IR 
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