Surface Characteristics of TiN Prepared by High-energy, High-density Ion Implantation

• Miki Shinichi

  Himeji Institute of Technology

• Yatsuzuka Mitsuyasu

  Himeji Institute of Technology

• Hashimoto Yoshiyuki

  Kobe City College of Technology

• Yamasaki Tohru

  Himeji Institute of Technology

• Uchida Hitoshi

  Himeji Institute of Technology

Bibliographic Information

Other Title

• 高エネルギー•高密度イオン注入によって作製したTiNの特性評価
• 高エネルギー・高密度イオン注入によって作製したTiNの特性評価
• コウエネルギー コウミツド イオン チュウニュウ ニ ヨッテ サクセイ シタ TiN ノ トクセイ ヒョウカ

Journal

• IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials

  IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials 119 (5), 587-592, 1999

  The Institute of Electrical Engineers of Japan

Keywords

• PBII
• PSII
• PIII
• TiN

Details

• CRID: 1390282679575685120
• NII Article ID: 130006838788
• NII Article ID: 10011086590
• NII Article ID: 10004442696
• NII Book ID: AN10136312
• DOI: 10.1541/ieejfms1990.119.5_587
• ISSN: 13475533
• ISSN: 03854205
• ISSN: http://id.crossref.org/issn/03854205
• NDL BIB ID: 4716136
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4716136
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejfms1990/119/5/119_5_587/_pdf
• Data Source:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles