パルスレーザーデポジション法によって製作した薄膜の膜厚に対する酸素圧力の影響

• 門中 利昭

  防衛大学校

• 井上 成美

  防衛大学校

• 柏原 茂

  防衛大学校

• 藤本 良三

  日本文理大

書誌事項

タイトル別名

• Influence of Oxygen Pressure on the Thickness of Thin Films Deposited by Pulsed Laser Deposition Method
• パルスレーザーデボジション法によって製作した薄膜の膜厚に対する酸素圧力の影響
• パルスレーザーデボジションホウ ニ ヨッテ セイサク シタ ハクマク ノ マクアツ ニ タイスル サンソ アツリョク ノ エイキョウ

収録刊行物

• 電気学会論文誌．　Ａ

  電気学会論文誌．　Ａ 119 (5), 593-598, 1999

  一般社団法人 電気学会

キーワード

• パルスレーザーデポジション
• レーザーアブレーション
• 薄膜
• 膜厚分布

詳細情報

• CRID: 1390001204598975104
• NII論文ID: 10004442711
• NII書誌ID: AN10136312
• DOI: 10.1541/ieejfms1990.119.5_593
• ISSN: 13475533
• ISSN: 03854205
• NDL書誌ID: 4716143
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4716143
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejfms1990/119/5/119_5_593/_pdf
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles