Influence of Oxygen Pressure on the Thickness of Thin Films Deposited by Pulsed Laser Deposition Method

• Monnaka Toshiaki

  National Defense Academy

• Inoue Narumi

  National Defense Academy

• Kashiwabara Shigeru

  National Defense Academy

• Fujimoto Ryozo

  Nippon Bunri University

Bibliographic Information

Other Title

• パルスレーザーデポジション法によって製作した薄膜の膜厚に対する酸素圧力の影響
• パルスレーザーデボジション法によって製作した薄膜の膜厚に対する酸素圧力の影響
• パルスレーザーデボジションホウ ニ ヨッテ セイサク シタ ハクマク ノ マクアツ ニ タイスル サンソ アツリョク ノ エイキョウ

Journal

• IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials

  IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials 119 (5), 593-598, 1999

  The Institute of Electrical Engineers of Japan

Keywords

• パルスレーザーデポジション
• レーザーアブレーション
• 薄膜
• 膜厚分布

Details

• CRID: 1390001204598975104
• NII Article ID: 10004442711
• NII Book ID: AN10136312
• DOI: 10.1541/ieejfms1990.119.5_593
• ISSN: 13475533
• ISSN: 03854205
• NDL BIB ID: 4716143
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4716143
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejfms1990/119/5/119_5_593/_pdf
• Data Source:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles