シリコン熱酸化膜中の不純物の拡散機構 Impurity Diffusion Mechanisms in Thermally Grown Silicon Dioxide Films

この論文をさがす

著者

収録刊行物

  • 材料とプロセス : 日本鉄鋼協会講演論文集 = Current advances in materials and processes : report of the ISIJ meeting

    材料とプロセス : 日本鉄鋼協会講演論文集 = Current advances in materials and processes : report of the ISIJ meeting 10(4), 841, 1999-09-05

参考文献:  1件中 1-1件 を表示

  • <no title>

    R. B. Fair

    J.Electrochem. Soc., 144, 708, 1997

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004454359
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10056461
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09146628
  • データ提供元
    CJP書誌 
ページトップへ