シリコン熱酸化膜中の不純物の拡散機構
書誌事項
- タイトル別名
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- Impurity Diffusion Mechanisms in Thermally Grown Silicon Dioxide Films
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収録刊行物
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- 材料とプロセス : 日本鉄鋼協会講演論文集 = Current advances in materials and processes : report of the ISIJ meeting
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材料とプロセス : 日本鉄鋼協会講演論文集 = Current advances in materials and processes : report of the ISIJ meeting 10 (4), 841-, 1999-09-05
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1570572699275168768
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- NII論文ID
- 10004454359
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- NII書誌ID
- AN10056461
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- ISSN
- 09146628
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- CiNii Articles