REACTIVE ION BEAM ETCHING (RIBE) TECHNIQUE FOR CROSS SECTIONAL SEM SPECIMEN PREPARATION OF SEMICONDUCTORS

この論文をさがす

著者

収録刊行物

  • 電子顕微鏡

    電子顕微鏡 34, 83, 1999-05-01

参考文献:  2件中 1-2件 を表示

  • <no title>

    ALANI R.

    Proc.14th.ICEM 367, 1998

    被引用文献2件

  • <no title>

    ALANI R.

    MRS symposium 199, 85, 1990

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004538819
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00145000
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    OTR
  • ISSN
    04170326
  • データ提供元
    CJP書誌 
ページトップへ