SiO_xN_y/Si界面の位置分解EELS計測

• 青山 隆

  日立・日立研

• 木本 浩司

  日立・日立研

• 上田 和浩

  日立・日立研

• 矢野 史子

  日立・半導体事業部

• 三井 泰裕

  日立・半導体事業部

書誌事項

タイトル別名

• composition and chemical shift analysis at SiO_xN_y/Si interface using spatially-resolved EELS

収録刊行物

• 電子顕微鏡

  電子顕微鏡 34 107-, 1999-05-01

詳細情報

• CRID: 1571980074182282496
• NII論文ID: 10004538872
• NII書誌ID: AN00145000
• ISSN: 04170326
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles