シリコン表面の初期酸化における酸素分子線の運動エネルギー効果 Kinetic Energy Effects of Oxygen Molecular Beams in Initial Oxidation of Silicon Surfaces

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  • 真空

    真空 43(3), 412, 2000-03-20

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    TERAOKA Y.

    Jpn.J.Appl.Phys. 38, 642, 1999

    被引用文献8件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004561980
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    OTR
  • ISSN
    05598516
  • データ提供元
    CJP書誌 
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