Ti膜上でのCuの偏析濃度と仕事関数低下量との相関 Work Function Reduction by Cu Segregation on Ti Film with Different Concentration

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著者

収録刊行物

  • 真空  

    真空 43(3), 416, 2000-03-20 

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004561989
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    OTR
  • ISSN
    05598516
  • データ提供元
    CJP書誌 
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