超短波帯プラズマ化学気相成長法によるSiNx膜の作製

• 安部 薫

  日本真空技術(株)筑波超材料研究所

• 継枝 孝行

  日本真空技術(株)筑波超材料研究所

• 斎藤 一也

  日本真空技術(株)筑波超材料研究所

• 松浦 正道

  日本真空技術(株)筑波超材料研究所

書誌事項

タイトル別名

• Study of SiNx Thin Film Prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition using Very High Frequency Band Discharge

収録刊行物

• 真空

  真空 43 (3), 419-, 2000-03-20

詳細情報

• CRID: 1574231873990530944
• NII論文ID: 10004561997
• NII書誌ID: AN00119871
• ISSN: 05598516
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles