スパッタ法によるアモルファスGeCO:H薄膜 Amorphous GeCO:H Films Prepared by Sputtering

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  • 真空

    真空 43(3), 424, 2000-03-20

参考文献:  4件中 1-4件 を表示

  • <no title>

    斎藤順雄

    真空 36, 347, 1993

    被引用文献2件

  • <no title>

    斎藤順雄

    真空 42, 233, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    MOTT N. F.

    Electronic Processes in Non-Crystalline Materials 289, 1979

    被引用文献7件

  • <no title>

    SAITO N.

    Thin Solid Films 269, 69, 1995

    被引用文献4件

被引用文献:  1件中 1-1件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004562013
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    OTR
  • ISSN
    05598516
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用 
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