スパッタ法によるアモルファスGeCO:H薄膜

• 斎藤 順雄

  高松工専

• 仲秋 勇

  静岡県富士工技センタ

• 岩田 弘

  香川県工技センタ

• 中村 茂昭

  高松工専

• 吉岡 捷爾

  香川大学

• 山口 十六夫

  静岡大学

書誌事項

タイトル別名

• Amorphous GeCO:H Films Prepared by Sputtering

収録刊行物

• 真空

  真空 43 (3), 424-, 2000-03-20

詳細情報

• CRID: 1572261549153213312
• NII論文ID: 10004562013
• NII書誌ID: AN00119871
• ISSN: 05598516
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles