三元系水素化アモルファス薄膜a-SiCO:Hの作成と特性 Preparation and Properties of Ternary Hydrogenated Amorphous Films a-SiCO:H

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収録刊行物

  • 真空

    真空 43(3), 425, 2000-03-20

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  • <no title>

    SAITO N.

    Thin Solid Films 281, 302, 1996

    被引用文献6件

  • <no title>

    斎藤順雄

    真空 41, 171, 1998

    被引用文献5件

  • <no title>

    SAITO N.

    J.Appl.Phys. 83, 2067, 1998

    被引用文献5件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004562018
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    OTR
  • ISSN
    05598516
  • データ提供元
    CJP書誌 
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