Alエッチング装置内壁面の入射イオンのin situ分析 Analysis of Incident Ions on Chamber Surface in Al Etching by Cl_2 and BCl_3

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収録刊行物

  • 真空  

    真空 43(3), 435, 2000-03-20 

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被引用文献:  1件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004562049
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    OTR
  • ISSN
    05598516
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用 
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