シリコン表面の初期酸化と水素 Initial Oxidation of Si Surfaces and Hydrogen Effects

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収録刊行物

  • 真空

    真空 43(3), 440, 2000-03-20

参考文献:  4件中 1-4件 を表示

  • <no title>

    HIRASHITA N.

    Appl. Phys. Lett. 56, 451, 1990

    被引用文献9件

  • <no title>

    HIGASHI G. S.

    Appl. Phys. Lett. 56, 656, 1990

    被引用文献74件

  • <no title>

    IKEDA H.

    Jpn. J. Appl. Phys. 35, 1069, 1996

    被引用文献9件

  • <no title>

    IKEDA H.

    Thin Solid Films 343-344, 408, 1999

    DOI 被引用文献3件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004562059
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    OTR
  • ISSN
    05598516
  • データ提供元
    CJP書誌 
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