シリコン表面の初期酸化過程の赤外分光解析 Infrared Spectroscopy Analysis of the Initial Oxidation Process of Si Surface

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  • 真空

    真空 43(3), 441, 2000-03-20

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  • <no title>

    WELDON Marcus K.

    Phys.Rev.Lett. 79, 2851, 1997

    被引用文献1件

  • <no title>

    STEFANOV Boris B.

    Phys.Rev.Lett. 81, 3908, 1998

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004562064
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    OTR
  • ISSN
    05598516
  • データ提供元
    CJP書誌 
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