ポリイミドフィルムのスパッタリングにおける放電ガスへのN_2の添加効果

書誌事項

タイトル別名
  • N_2 addition to Ar Discharge Gas in Sputter-Deposition of Polyimid Thin Films

この論文をさがす

収録刊行物

  • 真空

    真空 43 (3), 453-, 2000-03-20

被引用文献 (1)*注記

もっと見る

参考文献 (1)*注記

もっと見る

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1573387449060055552
  • NII論文ID
    10004562099
  • NII書誌ID
    AN00119871
  • ISSN
    05598516
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • CiNii Articles

問題の指摘

ページトップへ