低誘電率層間絶縁膜のプラズマ化学気相堆積 Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Interlayer Films Having a Low Dielectric Constant

この論文にアクセスする

この論文をさがす

著者

    • 白藤 立 SHIRAFUJI Tatsuru
    • 京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科 Department of Electronics and Information Science, kyoto Institute of Technology
    • 林 康明 HAYASHI Yasuaki
    • 京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科 Department of Electronics and Information Science, kyoto Institute of Technology
    • 西野 茂弘 NISHINO Shigehiro
    • 京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科 Department of Electronics and Information Science, kyoto Institute of Technology

収録刊行物

  • 真空  

    真空 43(4), 504-511, 2000-04-20 

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  40件

参考文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004562175
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    5367384
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
ページトップへ