低誘電率層間絶縁膜のプラズマ化学気相堆積 Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Interlayer Films Having a Low Dielectric Constant

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著者

    • 白藤 立 SHIRAFUJI Tatsuru
    • 京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科 Department of Electronics and Information Science, kyoto Institute of Technology
    • 林 康明 HAYASHI Yasuaki
    • 京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科 Department of Electronics and Information Science, kyoto Institute of Technology
    • 西野 茂弘 NISHINO Shigehiro
    • 京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科 Department of Electronics and Information Science, kyoto Institute of Technology

収録刊行物

  • 真空

    真空 43(4), 504-511, 2000-04-20

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  40件中 1-40件 を表示

  • <no title>

    RENNARD R. H.

    IEEE.J.Solid-State Circuits SC-9, 256, 1974

    被引用文献1件

  • <no title>

    柴田英毅

    電子情報通信学会誌C-II J78-C-II, 165, 1995

    被引用文献1件

  • <no title>

    DUBIN V. M.

    J. Electrochem. Soc. 144, 898, 1997

    被引用文献14件

  • <no title>

    HAVEMANN R. H.

    Mater.Res.Soc.Symp.Proc 511, 3, 1998

    被引用文献2件

  • <no title>

    HORIUCHI T.

    Proc.1998 Dry Process Symp 163, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    川名弘康

    Semiconductor World 18(5), 80, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    HACKER N. P.

    MRS Bulletin 22, 33, 1997

    被引用文献1件

  • <no title>

    LU T. -M.

    MRS Bulletin 22, 28, 1997

    被引用文献1件

  • <no title>

    ENDO K.

    MRS Bulletin 22, 55, 1997

    被引用文献1件

  • <no title>

    五味秀樹

    Semiconductor World 18(6), 96, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    D'AGOSTINO R.

    Plasma Polymerization of Fluorocarbons, Plasma Deposition, Treatment, and Etching of Polymers 95, 1990

    被引用文献1件

  • <no title>

    ENDO K.

    Mater.Res.Soc.Symp.Proc 381, 249, 1995

    被引用文献2件

  • <no title>

    ENDO K.

    J.Appl.Phys 78, 1339, 1995

    被引用文献1件

  • <no title>

    ENDO K.

    Jpn.J.Appl.Phys. 36, L1531, 1997

    被引用文献5件

  • <no title>

    ENDO K.

    Jpn.J.Appl.Phys. 37, 1809, 1998

    被引用文献5件

  • <no title>

    TAKEISHI S.

    J.Electrochem.Soc 144, 1797, 1997

    被引用文献4件

  • <no title>

    KIM D. S.

    Appl.Phys.Lett. 69, 2776, 1996

    被引用文献3件

  • <no title>

    SHIRAFUJI T.

    Jpn.J.Appl.Phys 38, 4520, 1990

    被引用文献1件

  • <no title>

    SHIRAFUJI T.

    Plasmas and Polym 4, 57, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    HAN L. M.

    J.Appl.Phys 84, 439, 1998

    被引用文献5件

  • <no title>

    HAN L. M.

    Mater.Res.Soc.Symp.Proc 511, 93, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    橘邦英

    プラズマ 核融合学会誌 75, 785, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    白藤立

    応用物理 68, 532, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    SAKAMORI S.

    Proc.1998 Dry Process Symp 275, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    CHINZEI Y.

    Proc.1998 Dry Process Symp 281, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    ITO Y.

    Proc.1998 Dry Process Symp 263, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    SAMUKAWA S.

    Jpn.J.Appl.Phys 37, L1095, 1998

    被引用文献4件

  • <no title>

    SHIRAFUJI T.

    Ext.Abst.1999 Int.Conf.Solid State Devices and Mater 500, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    SHIRAFUJI T.

    Proc.1999 Advanced Metallization Conf

    被引用文献1件

  • <no title>

    LABELLE C. B.

    Mater.Res.Soc.Symp.Proc 511, 75, 1998

    被引用文献2件

  • <no title>

    LABBLLE C. B.

    J.Vac.Sci.Soc.A 17, 445, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    POON T.

    Proc.1999 Advanced Metallization Conf

    被引用文献1件

  • <no title>

    BOOTH J. P.

    Plasma Sources Sci. Technol. 8, 249, 1999

    被引用文献3件

  • <no title>

    SUZUKI C.

    Jpn. J. Appl. Phys. 37, 5763, 1998

    被引用文献5件

  • <no title>

    MACKIE N. M.

    J. Phys. Chem. B 101, 9425, 1997

    被引用文献2件

  • Interconnect scaling-The real limiter to high performance ULSI

    BOHR M. T.

    IEDM Tech. Dig., December, 1995, 1995

    被引用文献16件

  • <no title>

    D'AGOSTINO R.

    Thin Solid Films 143, 163, 1986

    DOI 被引用文献2件

  • <no title>

    SUZUKI C.

    J.Vac.Sci.& Technol. A16, 2222, 1998

    DOI 被引用文献10件

  • <no title>

    CAPPS N. E.

    J.Appl.Phys. 84, 4736, 1998

    DOI 被引用文献3件

  • CFx Radical Creation and Destruction at Surfaces in Fluorocarbon Plasmas (特集 材料プロセス用フルオロカーボンプラズマに関する基礎研究の進展)

    Booth Jean-Paul , Cunge Gilles

    プラズマ・核融合学会誌 = Journal of plasma and fusion research 75(7), 821-829, 1999-07

    J-STAGE DOI 参考文献73件 被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004562175
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    5367384
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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