プラズマ洗浄と半導体組み立て工程への応用 Plasma Cleaning and Applications for Semiconductor Assembly Process

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著者

    • 土師 宏 HAJI Hiroshi
    • 九州松下電器株式会社 FA研究所 Factory Automation Research Laboratory, Kyushu Matsushita Electric Co., Ltd.
    • 有田 潔 ARITA Kiyoshi
    • 九州松下電器株式会社 FA研究所 Factory Automation Research Laboratory, Kyushu Matsushita Electric Co., Ltd.

収録刊行物

  • 真空

    真空 43(6), 647-653, 2000-06-20

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  14件中 1-14件 を表示

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    有田潔

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    土師宏

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    ARITA K.

    J.Vac.Sci.Technol B16(2), 670, 1998

    DOI 被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004562443
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    5391744
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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