化学的機械的研磨装置用洗浄装置 Cleaning Units for Chemical Mechanical Polishing

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著者

    • 井上 辰雄 INOUE Tatsuo
    • 株式会社荏原製作所 精密電子事業本部装置第一事業部技術部 CMP Engineering Dept, Semiconductor Equipment Division 1, Precision Machinery Group, EBARA Corporation
    • 白樫 充彦 SHIRAKASHI Mitsuhiko
    • 株式会社荏原製作所 精密電子事業本部開発統括室開発企画部 Planning Dept, New Product Development Div, Precision Machinery Group, EBARA Corporation

収録刊行物

  • 真空  

    真空 43(6), 678-682, 2000-06-20 

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  1件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004562508
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    5391773
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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