反応性スパッタリングとターゲット　　マグネトロンプラズマのシミュレーション

• 志堂寺 栄治

  旭硝子株式会社中央研究所

• 真壁 利明

  慶応義塾大学理工学部電子工学科

書誌事項

タイトル別名

• Simulation of Magnetron Plasma
• マグネトロンプラズマ ノ シミュレーション

収録刊行物

• 真空

  真空 43 (8), 767-772, 2000

  一般社団法人 日本真空学会

キーワード

• Electrical and Electronic Engineering
• Surfaces, Coatings and Films
• Condensed Matter Physics

詳細情報

• CRID: 1390001204063537664
• NII論文ID: 10004562632
• NII書誌ID: AN00119871
• DOI: 10.3131/jvsj.43.767
• ISSN: 18809413
• ISSN: 05598516
• NDL書誌ID: 5476035
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I5476035
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles