反応性スパッタリングとターゲット　　Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ３薄膜の低温・高速堆積用の固体酸素供給源による反応性スパッタ法の提案

• 川越 進也

  金沢大学大学院自然科学研究科

• 金 済徳

  金沢大学大学院自然科学研究科

• 吉田 行男

  金沢大学工学部電気電子システム工学科

• 佐々木 公洋

  金沢大学大学院自然科学研究科

• 畑 朋延

  金沢大学工学部電気電子システム工学科

書誌事項

タイトル別名

• Targets for High Rate Reactive Sputtering. Propose of Reactive Sputtering using Solid Oxygen Source for Low-Temperature and High Deposition Rate Fabrication of Pb(Zr,Ti)O3 Thin Film.
• Pb Zr Ti O3 ハクマク ノ テイオン コウソク タイセキヨウ ノ コタイ サンソ キョウキュウ ゲン ニ ヨル ハンノウセイ スパッタホウ ノ テイアン

抄録

A new film deposition technique by reactive sputtering using a metal-oxide combined targe (ZrTi + PbO) was proposed and the film growth mechanism was discussed. By the technique perovskite Pb (Zr, Ti) O₃ (PZT) films could be grown at a substrate temperature as low as 450°C. Oxygen atoms for the reactive sputtering was not supplied from introduced O₂ gas but from the PbO oxide target. The oxygen flux from the PbO solid source plays an important role to crystallize the perovskite PZT films.

収録刊行物

• 真空

  真空 43 (8), 785-789, 2000

  一般社団法人 日本真空学会

キーワード

• Electrical and Electronic Engineering
• Surfaces, Coatings and Films
• Condensed Matter Physics

詳細情報

• CRID: 1390282679040251904
• NII論文ID: 10004562677
• NII書誌ID: AN00119871
• DOI: 10.3131/jvsj.43.785
• ISSN: 18809413
• ISSN: 05598516
• NDL書誌ID: 5476082
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I5476082
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可