アモルファスシリコンの光誘起変化--レーザー脱離飛行時間質量分析による解析

• 鯉沼 秀臣

• 角谷 正友

Bibliographic Information

Other Title

• アモルファス シリコン ノ ヒカリ ユウキ ヘンカ レーザー ダツリ ヒコウ

Journal

• 応用物理

  応用物理 66 (10), 1089-1093, 1997-10

  東京 : 応用物理学会

Details

• CRID: 1520572360199325824
• NII Article ID: 10004566002
• NII Book ID: AN00026679
• ISSN: 03698009
• NDL BIB ID: 4313351
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4313351
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles