触媒CVD(cat-CVD)法によるシリコン系薄膜堆積

• 松村 英樹

書誌事項

タイトル別名

• ショクバイ CVD cat-CVD ホウ ニヨル シリコンケイ ハクマク タイ

収録刊行物

• 応用物理

  応用物理 66 (10), 1094-1097, 1997-10

  東京 : 応用物理学会

詳細情報

• CRID: 1520290885212736384
• NII論文ID: 10004566028
• NII書誌ID: AN00026679
• ISSN: 03698009
• NDL書誌ID: 4313352
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4313352
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles