化学気相成長(CVD)の合理的設計 Optimum design policy of chemical vapor deposition processes

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著者

    • 小宮山 宏 KOMIYAMA Hiroshi
    • 東京大学工学部化学システム工学科 Department of Chemical System Engineering, School of Engineering, The University of Tokyo

収録刊行物

  • 應用物理  

    應用物理 66(10), 1115-1119, 1997-10-10 

    応用物理学会

参考文献:  14件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004566112
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00026679
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03698009
  • NDL 記事登録ID
    4313357
  • NDL 雑誌分類
    ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-243
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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