パルスパワー技術を用いた薄膜と超微粒子の作製 Preparation of thin films and nanosize powders using pulsed power technology

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著者

    • 八井 浄 YATSUI Kiyoshi
    • 長岡技術科学大学電気系,同粒子ビーム工学センター Laboratory of Beam Technology, Nagaoka University of Technology
    • 偉華 江 JIANG Weihua
    • 長岡技術科学大学電気系,同粒子ビーム工学センター Laboratory of Beam Technology, Nagaoka University of Technology

抄録

大電力のパルスビーム(レーザービーム,粒子ビームなど)をターゲット材料に照射するとビームのエネルギーを吸収して飛散する(アブレーション).このとき生成されるプラズマは,通常の低密度プラズマとは異なり,非常に高密度で,新しい応用が可能となってきた.本講義では,筆者らが開発したパルスイオンビーム蒸着法やパルス細線放電法による高密度アブレーションプラズマを用いて,薄膜や超微粒子作製について,原理や開発の現状などについて紹介する.

収録刊行物

  • 應用物理  

    應用物理 67(6), 648-654, 1998-06-10 

    The Japan Society of Applied Physics

参考文献:  33件

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被引用文献:  3件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004566733
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00026679
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03698009
  • NDL 記事登録ID
    4474693
  • NDL 雑誌分類
    ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-243
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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