Preparation of thin films and nanosize powders using pulsed power technology
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- YATSUI Kiyoshi
- Laboratory of Beam Technology, Nagaoka University of Technology
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- JIANG Weihua
- Laboratory of Beam Technology, Nagaoka University of Technology
Bibliographic Information
- Other Title
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- パルスパワー技術を用いた薄膜と超微粒子の作製
- パルスパワー ギジュツ オ モチイタ ハクマク ト チョウビリュウシ ノ サク
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Abstract
大電力のパルスビーム(レーザービーム,粒子ビームなど)をターゲット材料に照射するとビームのエネルギーを吸収して飛散する(アブレーション).このとき生成されるプラズマは,通常の低密度プラズマとは異なり,非常に高密度で,新しい応用が可能となってきた.本講義では,筆者らが開発したパルスイオンビーム蒸着法やパルス細線放電法による高密度アブレーションプラズマを用いて,薄膜や超微粒子作製について,原理や開発の現状などについて紹介する.
Journal
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- Oyo Buturi
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Oyo Buturi 67 (6), 648-654, 1998
The Japan Society of Applied Physics
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390282679573376384
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- NII Article ID
- 10004566733
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- NII Book ID
- AN00026679
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- COI
- 1:CAS:528:DyaK1cXjsFGht7s%3D
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- ISSN
- 21882290
- 03698009
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- NDL BIB ID
- 4474693
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- Data Source
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- JaLC
- NDL
- CiNii Articles
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- Abstract License Flag
- Disallowed