パルスパワー技術を用いた薄膜と超微粒子の作製

• 八井 浄

  長岡技術科学大学電気系,同粒子ピーム工学センター

• 江 偉華

  長岡技術科学大学電気系,同粒子ピーム工学センター

書誌事項

タイトル別名

• Preparation of thin films and nanosize powders using pulsed power technology
• パルスパワー ギジュツ オ モチイタ ハクマク ト チョウビリュウシ ノ サク

抄録

大電力のパルスビーム(レーザービーム,粒子ビームなど)をターゲット材料に照射するとビームのエネルギーを吸収して飛散する(アブレーション).このとき生成されるプラズマは,通常の低密度プラズマとは異なり,非常に高密度で,新しい応用が可能となってきた.本講義では,筆者らが開発したパルスイオンビーム蒸着法やパルス細線放電法による高密度アブレーションプラズマを用いて,薄膜や超微粒子作製について,原理や開発の現状などについて紹介する.

収録刊行物

• 応用物理

  応用物理 67 (6), 648-654, 1998

  公益社団法人 応用物理学会

キーワード

• pulsed power
• ablation plasma
• ion beam
• pulsed wire discharge
• thin films
• nanosize powders

詳細情報

• CRID: 1390282679573376384
• NII論文ID: 10004566733
• NII書誌ID: AN00026679
• DOI: 10.11470/oubutsu1932.67.648
• COI: 1:CAS:528:DyaK1cXjsFGht7s%3D
• ISSN: 21882290
• ISSN: 03698009
• NDL書誌ID: 4474693
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4474693
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可