大面積イオン・プラズマ流発生技術とその応用 Technology for generation of ion and plasma stream and its application

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抄録

大型基板を対象とするイオン流発生技術の本格的な実用化が始まった.本稿では,液晶ディスプレイ 製造用の大口径高周波イオン源において,ボスフィンガスおよびジボランガスで生成したプラズマ中のイオン種生成について示す.また,ほかのイオン流発生技術についてその動向を示す.

収録刊行物

  • 應用物理

    應用物理 67(6), 655-658, 1998-06-10

    The Japan Society of Applied Physics

参考文献:  11件中 1-11件 を表示

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    月刊LCD Intelligence 増刊号『'97最新液晶プロセス技術』 40, 1996

    被引用文献1件

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    安東靖典

    月刊Semiconductor World 8月号, 144, 1995

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    河内玄士朗

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    酒井滋樹

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    山本直矢

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    ENGELKO Vladimir

    IEEE Trans on Plasma Sci 25[4], 722, 1997

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004566767
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00026679
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03698009
  • NDL 記事登録ID
    4474694
  • NDL 雑誌分類
    ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-243
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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