高純度オゾンビームを利用したシリコン酸化膜形成と表面クリーニング

• 一村 信吾

• 黒河 明

• 中村 健

書誌事項

タイトル別名

• コウジュンド オゾンビーム オ リヨウ シタ シリコン サンカマク ケイセイ

収録刊行物

• 応用物理

  応用物理 67 (6), 673-677, 1998-06

  東京 : 応用物理学会

詳細情報

• CRID: 1520290885231008384
• NII論文ID: 10004566859
• NII書誌ID: AN00026679
• ISSN: 03698009
• NDL書誌ID: 4474698
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4474698
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles