高純度オゾンビームを利用したシリコン酸化膜形成と表面クリーニング Application of high purity ozone beam to silicon-oxide thin-film formation and surface cleaning

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  • 應用物理

    應用物理 67(6), 673-677, 1998-06-10

    応用物理学会

参考文献:  22件中 1-22件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004566859
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00026679
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03698009
  • NDL 記事登録ID
    4474698
  • NDL 雑誌分類
    ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-243
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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